分散剂对CMP浆料稳定性与抛光性能的影响及机理探究
在化学机械抛光(CMP)技术中,抛光浆料是关键中的关键。CMP抛光浆料主要由磨料、溶剂和各种不同的添加剂组成。在浆料的运输、储存和处理过程中,可能会发生由于团聚而导致的大颗粒污染,进而导致表面的微划痕或其他缺陷。而添加分散剂是常见的提高浆料稳定性的做...
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中国稀土学会2024学术年会摘要集
2024年
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