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分散剂对CMP浆料稳定性与抛光性能的影响及机理探究
南昌大学化学化工学院
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刘佳豪
金晓洁
陈鸿燕
黄鑫宇
廖媛媛
周小清
李静
李永绣
开通知网号
在化学机械抛光(CMP)技术中,抛光浆料是关键中的关键。CMP抛光浆料主要由磨料、溶剂和各种不同的添加剂组成。在浆料的运输、储存和处理过程中,可能会发生由于团聚而导致的大颗粒污染,进而导致表面的微划痕或其他缺陷。而添加分散剂是常见的提高浆料稳定性的做...
领 域:
金属学及金属工艺;
关键词:
氧化铈;
化学机械抛光;
核磁共振;
分散性;
德拜长度;
格 式:
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