集成电路制造用的化学机械抛光液包含纳米尺度的氧化硅,氧化铝,氧化铈分散在添加剂的水相体系。纳米颗粒在抛光液中有举足轻重的作用,纳米颗粒的分析表征手段尤为重要。各种综合分析技术包含颗粒的组成,晶体结构(包括晶体缺陷),颗粒大小和分布,表面电荷,表面活性...